特許
J-GLOBAL ID:200903028630291531

耐紫外線のリフレクタ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 好宮 幹夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-220986
公開番号(公開出願番号):特開2007-102193
出願日: 2006年08月14日
公開日(公表日): 2007年04月19日
要約:
【課題】点光源や線状光源からの光を対象物に均一にまき散らす耐紫外線のリフレクタを開示する。【解決手段】耐紫外線リフレクタは、ポリカーボネート基材における黄変を低減するため、光反射ポリマー基材、及びポリカーボネート基材上に形成された耐紫外線材料の保護層を主に含む。点光源や線状光源からの光が耐紫外線リフレクタに照射されると、その光における紫外線は保護層により取り除かれ、ポリカーボネート基材の黄変を低減できる。【選択図】なし
請求項(抜粋):
ポリマー基材と、 前記ポリマー基材上に形成されたポリプロピレン層と、 を備えることを特徴とする、耐紫外線のリフレクタ。
IPC (2件):
G02B 5/08 ,  F21V 7/22
FI (2件):
G02B5/08 A ,  F21V7/22 D
Fターム (39件):
2H042DA01 ,  2H042DA11 ,  2H042DA14 ,  2H042DA17 ,  2H042DA21 ,  2H042DB02 ,  2H042DC00 ,  2H042DE04 ,  4F100AA01A ,  4F100AA01B ,  4F100AA21A ,  4F100AA21B ,  4F100AA25A ,  4F100AA25B ,  4F100AH02B ,  4F100AH03B ,  4F100AK01A ,  4F100AK07B ,  4F100AK17C ,  4F100AK25B ,  4F100AK25C ,  4F100AK41C ,  4F100AK44C ,  4F100AK45A ,  4F100AK51C ,  4F100AK52C ,  4F100AK53C ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100CA07B ,  4F100CB00 ,  4F100DE01A ,  4F100DE01B ,  4F100GB41 ,  4F100JD09 ,  4F100JN06
引用特許:
審査官引用 (3件)

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