特許
J-GLOBAL ID:200903028641166259

収束実体写真測量の外部標定法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 後呂 和男 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-152403
公開番号(公開出願番号):特開平6-094455
出願日: 1991年05月27日
公開日(公表日): 1994年04月05日
要約:
【要約】【目的】 収束実体写真測量の外部標定において、X座標における誤差を極小にして測量の精度を高める。【構成】 相互標定操作の後に、写真上における測定対象物の画像のX座標値を補正するX座標補正操作と、前記相互標定操作及びX座標補正操作によって特定された三次元モデルを実空間の三次元座標に変換する絶対標定操作とを順に実行する。このうち、特にX座標補正操作は本発明にて初めて導入された過程であり、一方の写真上における他方のカメラのレンズ投影中心の画像点である2つの核点と実空間内のある一点の両写真上における2つの画像点との4点についての核条件と称される共面条件を適用することにより、X座標の補正値を算出するところに特徴がある。
請求項(抜粋):
撮影軸が互いに平行でない一対の写真に写った対象物の画像の二次元測定座標に基づきその対象物の実空間における三次元座標を特定する収束実体写真測量の外部標定法において、前記一対の写真の相互関係を特定するための相互標定操作と、前記写真上における測定対象物の画像点のX座標値を補正するX座標補正操作と、上記相互標定操作及びX座標補正操作によって構成された三次元モデルと実在の空間との幾何学的対応をつける絶対標定操作とを順に実行するもので、前記X座標補正操作は、一方の写真上における他方のカメラのレンズ投影中心の画像点である左右写真上での2つの核点と実空間内のある一点の両写真上における2つの画像点との4個の点についての核条件と称される共面条件を適用してX座標の補正値を算出することを特徴とする収束実体写真測量の外部標定法。

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