特許

J-GLOBAL ID：200903028642516210

拡散ウェーハの製造方法

発明者： 広瀬 景悟
出願人/特許権者： コマツ電子金属株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-283992
公開番号（公開出願番号）：特開平8-124867
出願日： 1994年10月25日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：

【要約】【目的】 拡散ウェーハの製造方法において、最初から片面にのみ拡散層を形成して、ウェーハ研削量を少なくし、ロスの低減、工程処理能力向上を図ることを目的とする。【構成】 デポジション工程(B1)の前に、酸化膜形成工程(A2)及び酸化膜片面除去工程(A3)を介在させることによって、片面にのみデポ拡散層2を形成させ、従来あったハーフオフ工程(D1)が不要となることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

デポジション工程(B1)、ドライブイン工程(C)及びハーフオフ工程(D1)を経て作る拡散ウェーハの製造方法において、デポジション工程(B1)の前に、酸化膜形成工程(A2)及び酸化膜片面除去工程(A3)を介在させることによって、片面にのみデポ拡散層(2)を形成させることを特徴とする拡散ウェーハの製造方法。

IPC (2件)：

H01L 21/22 ,  H01L 21/02