特許

J-GLOBAL ID：200903028671101577

面位置検出方法

発明者： 山田 雄一 ,  鵜澤 繁行
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-198648
公開番号（公開出願番号）：特開平9-045608
出願日： 1995年08月03日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：

【要約】【課題】 パターン構造に依存する誤差を補正してウエハー表面の位置を高精度に検出する事ができる面位置検出方法を提供する。【解決手段】 面位置検出手段が面位置を検出する際の複数の検出ポイント間のパターン構造の違いにより生じる各検出ポイント毎の誤差を検出する段階と、前記物体を前記面位置検出手段に対して相対走査して、前記面位置検出手段で前記領域内の前記複数の検出ポイントの面位置を検出する際、検出ポイント毎に該検出ポイントに対応した前記誤差で検出結果を補正する段階とを有する。

請求項（抜粋）：

パターン構造を有する領域が形成された物体を面位置検出手段に対して相対走査して、前記領域内の複数の検出ポイントの面位置を前記面位置検出手段で測定する面位置検出方法において、前記面位置検出手段が面位置を検出する際の前記複数の検出ポイント間のパターン構造の違いにより生じる各検出ポイント毎の誤差を検出する段階と、前記物体を前記面位置検出手段に対して相対走査して、前記面位置検出手段で前記領域内の前記複数の検出ポイントの面位置を検出する際、検出ポイント毎に該検出ポイントに対応した前記誤差で検出結果を補正する段階とを有することを特徴とする面位置検出方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 516 A