特許
J-GLOBAL ID：200903028672803516
気相成長装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-258883
公開番号（公開出願番号）：特開平8-199360
出願日： 1989年10月30日
公開日（公表日）： 1996年08月06日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、流量制御機構内に残留したソースガスを効率良く除去できる構成を有する気相成長装置を提供することを課題とする。【解決手段】 本発明は、気相成長処理を行なう処理室1と、処理室1に供給される単一種類の有機系反応ガスの流量を制御し、有機系反応ガスを排気する大気ベントライン12が設けられた流量制御機構42とを有する気相成長装置において、大気ベントライン12に有機系反応ガスを除去するトラップ21を具備して構成される。
請求項（抜粋）：
気相成長処理を行なう処理室と、前記処理室に供給される単一種類の反応ガスの流量を制御し、前記反応ガスを排気する排気手段が設けられたガス流量制御手段とを有する気相成長装置において、前記排気手段に前記反応ガスを除去するガス処理手段を具備していることを特徴とする気相成長装置。
IPC (5件)：
C23C 16/44
, B01J 12/02
, H01L 21/205
, H01L 21/285
, H01L 21/31
