特許
J-GLOBAL ID:200903028682753673

表面洗浄装置および表面洗浄方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐藤 隆久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-108361
公開番号(公開出願番号):特開2003-303799
出願日: 2002年04月10日
公開日(公表日): 2003年10月24日
要約:
【要約】【課題】薬液を使用しないエアロゾル洗浄法において、被処理体の構造へ損傷を与える程度にまでエアロゾルの吹き付け速度を増加させることなく、付着物の除去効率を向上させることのできる表面洗浄装置および表面洗浄方法を提供する。【解決手段】エアロゾル噴出手段5により被処理体10の被処理面に向けて浮遊する微粒子を含むエアロゾル51が吹き付けられ、レーザ光照射手段4により光学窓22を介して洗浄室2内にレーザ光LBが照射されることにより、エアロゾル51に含まれる微粒子を液化あるいは気化させる。このようにして液化あるいは気化された微粒子による流動作用により、被処理体10の被処理面に付着した付着物が除去される。
請求項(抜粋):
被処理体の被処理面に向けて浮遊する微粒子を含むエアロゾルを吹き付けるエアロゾル噴出手段と、レーザ光を照射して、前記エアロゾルに含まれる前記微粒子を液化あるいは気化させるレーザ光照射手段とを有する表面洗浄装置。
IPC (4件):
H01L 21/304 645 ,  H01L 21/304 ,  B08B 5/00 ,  B08B 7/00
FI (5件):
H01L 21/304 645 B ,  H01L 21/304 645 A ,  H01L 21/304 645 D ,  B08B 5/00 Z ,  B08B 7/00
Fターム (7件):
3B116AA01 ,  3B116AA46 ,  3B116BB22 ,  3B116BB82 ,  3B116BC01 ,  3B116CD11 ,  3B116CD35

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