特許
J-GLOBAL ID:200903028686843766

塗布装置及び塗布方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-135179
公開番号(公開出願番号):特開平8-323267
出願日: 1995年06月01日
公開日(公表日): 1996年12月10日
要約:
【要約】【目的】 円筒状基材に感光体よりなる塗布液を、塗布液供給手段より前記塗布液分配室を介して、塗布液スライド面よりホッパー塗布面で前記円筒状基材に塗布する時、ビート切れを防止し、塗布液の膜厚を一定とする。更に溶媒中の残存酸素、微量ハロゲン、酸、アルカリ等の腐食を防止する事でサビの発生を防止し、膜厚精度を保持する事で、塗布ムラや、膜厚変動を発生させない塗布装置を提供する事を目的とするものである。【構成】 エンドレスに形成された連続周面を有する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する塗布装置であって、前記塗布液を分配する端部を有しない塗布液分配スリットと、前記円筒状基材外周を取り囲むようにして連続形成され、前記塗布液分配スリットの塗布液流出口の下側に連続して傾斜形成し、前記円筒状基材外径より大なる内径で終端をなすように構成された塗布液スライド面を有する塗布装置に於いて、前記塗布液スライド面長が0.5〜30mmであることを特徴とする塗布装置。
請求項(抜粋):
エンドレスに形成された連続周面を有する円筒状基材の外面上に塗布液を塗布する塗布装置であって、前記塗布液を分配する端部を有しない塗布液分配スリットと、前記円筒状基材外周を取り囲むようにして連続形成され、前記塗布液分配スリットの塗布液流出口の下側に連続して傾斜形成し、前記円筒状基材外径より大なる内径で終端をなすように構成された塗布液スライド面とを有する塗布装置において、前記塗布液スライド面長が0.5〜30mmであることを特徴とする塗布装置。
IPC (2件):
B05C 5/02 ,  B05D 1/26
FI (2件):
B05C 5/02 ,  B05D 1/26 Z
引用特許:
審査官引用 (13件)
  • 特開平4-267260
  • 特開昭60-093442
  • 特開平1-158452
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