特許

J-GLOBAL ID：200903028694682941

欠陥分類装置

発明者： 神田 大和
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-370218
公開番号（公開出願番号）：特開2003-168114
出願日： 2001年12月04日
公開日（公表日）： 2003年06月13日
要約：

【要約】【課題】主に半導体ウェハ及び液晶パネルのマクロ検査におけるレジストの塗付ムラや露光不良、キズ、塵埃の付着などの欠陥に関して、欠陥データの登録を必要とせず、より人間の判断に近い分類を可能にする欠陥分類装置を提供する。【解決手段】被検体の画像を基に検出された欠陥の種類を判別する欠陥分類装置において、検出された欠陥領域の画像より特徴量を抽出する特徴抽出手段102と、この特徴抽出手段102により抽出された特徴量に基づき、欠陥種を判別する推論判別手段106と、この推論判別手段106により判別された欠陥種が確定した領域を前記欠陥領域の画像から除外する確定領域除外手段107とを具備する。

請求項（抜粋）：

被検体の画像を基に検出された欠陥の種類を判別する欠陥分類装置において、検出された欠陥領域の画像より特徴量を抽出する特徴量抽出手段と、この特徴量抽出手段により抽出された特徴量に基づき、欠陥種を判別する欠陥種判別手段と、この欠陥種判別手段により判別された欠陥種が確定した領域を前記欠陥領域の画像から除外する確定領域除外手段とを具備することを特徴とする欠陥分類装置。

IPC (5件)：

G06T 7/00 300 ,  G01N 21/956 ,  G02F 1/13 101 ,  G06T 1/00 305 ,  H01L 21/66

FI (5件)：

G06T 7/00 300 F ,  G01N 21/956 A ,  G02F 1/13 101 ,  G06T 1/00 305 A ,  H01L 21/66 J

Fターム (33件)：

2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EC01 ,  2G051EC02 ,  2G051EC04 ,  2G051ED01 ,  2G051ED23 ,  2H088FA11 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  4M106AA01 ,  4M106AA20 ,  4M106CA38 ,  4M106CA41 ,  4M106DB21 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ27 ,  4M106DJ40 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057DA06 ,  5B057DB02 ,  5B057DC36 ,  5L096BA03 ,  5L096CA02 ,  5L096GA34 ,  5L096JA11

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 画像自動分類方法及び画像自動分類装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-372886   出願人：株式会社日立製作所