特許
J-GLOBAL ID：200903028705708034
断面透過電子顕微鏡試料の作製方法及び作製装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮田 金雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-021197
公開番号（公開出願番号）：特開平11-218473
出願日： 1998年02月02日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：
【要約】【課題】 集束したイオンビームを用いずに短時間で特定微小領域断面TEM観察試料を作製可能とすること、及び加工の際の試料へのダメージを低減することを目的とする。【解決手段】 観察試料よりもスパッタ速度が遅い材料で予めマスク3を作成し、このマスク3を試料1の観察する箇所に載置して、集束しないアルゴンイオンビームによりスパッタ加工した。
請求項（抜粋）：
特定微小領域の断面透過電子顕微鏡の試料を作製する方法であって、試料よりもスパッタ速度が遅い材料で予めマスクを作成する工程と、このマスクを試料の観察箇所に載置する工程と、イオンビームを用いてマスクが載置された試料をスパッタ加工する工程とを有する断面透過電子顕微鏡試料の作製方法。
IPC (4件)：
G01N 1/28
, G01N 1/32
, H01J 37/26
, H01J 37/305
G01N 1/28 G
, G01N 1/32 B
, H01J 37/26
, H01J 37/305 A
