特許
J-GLOBAL ID：200903028707720430

光透過性基体の透過可視光量増加剤及びそれを用いた高光透過性基体の製造方法

発明者：
緒方 四郎

緒方 四郎 について

, 
松井 義光

松井 義光 について


出願人/特許権者：
サスティナブル・テクノロジー株式会社

サスティナブル・テクノロジー株式会社 について


代理人 (6件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-056274
公開番号（公開出願番号）：特開2009-209319
出願日： 2008年03月06日
公開日（公表日）： 2009年09月17日
要約：
【課題】基体の材質及び形状に係らず適用可能な簡易な方法により、基体の反射率を低減させると共に透過率が増大して光学特性が向上した基体を提供すること【解決手段】有機ケイ素化合物及び/又は無機ケイ素化合物、並びに、金属ドープ酸化チタンを含む、光透過性基体の透過可視光量増加剤を光透過性基体の表面に塗布し、これを必要に応じて加熱して当該基体を光高透過性とする。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
有機ケイ素化合物及び/又は無機ケイ素化合物、並びに、金属ドープ酸化チタンを含む、光透過性基体の透過可視光量増加剤。
IPC (4件)：
C09K 3/00 ,  B32B 7/02 ,  C01G 23/04 ,  G02B 1/00
FI (4件)：
C09K3/00 U ,  B32B7/02 103 ,  C01G23/04 Z ,  G02B1/00
Fターム (23件)：
4F100AA20B ,  4F100AA21B ,  4F100AB01A ,  4F100AG00A ,  4F100AH06B ,  4F100AJ03B ,  4F100AK01A ,  4F100AK01B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100EH46B ,  4F100EJ42B ,  4F100GB41 ,  4F100GB90 ,  4F100JB05B ,  4F100JN01 ,  4F100JN01A ,  4F100JN08B ,  4G047CA05 ,  4G047CA08 ,  4G047CB05 ,  4G047CB06 ,  4G047CC03
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 特開昭50-70040号公報
  • コーティング用組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-179166   出願人：ジェイエスアール株式会社
  • 封入シリカ微粒子
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-269736   出願人：ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション
審査官引用 (2件)
  • コーティング用組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-179166   出願人：ジェイエスアール株式会社
  • 封入シリカ微粒子
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-269736   出願人：ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション

前のページに戻る

TOP

BOTTOM