特許
J-GLOBAL ID：200903028709331342
プラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森 道雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-070264
公開番号（公開出願番号）：特開平8-274083
出願日： 1995年03月29日
公開日（公表日）： 1996年10月18日
要約：
【要約】【構成】マイクロ波導波路となる誘電体線路21と、この誘電体線路21に対向する面にマイクロ波導入口3が開口してあり、このマイクロ波導入口3がマイクロ波導入板4で気密に封止された反応容器1と、この反応容器1内に配設された試料台6と、この試料台6に高周波電界または直流電界を印加する手段(高周波電源7)と、前記マイクロ波導入板4と前記試料台6との間に設けられ、マイクロ波を透過させるまたはプラズマを導入させる孔5bを有する対向電極板5と、この対向電極板5を接地する手段と、この対向電極板5に高周波電界または直流電界を印加する手段(高周波電源8)と、これらを切り換える手段9とを備えるプラズマ処理装置。【効果】長期の使用においても、均一で安定したプラズマ処理が可能になる。
請求項（抜粋）：
マイクロ波導波路となる誘電体線路と、この誘電体線路に対向する面に開口されたマイクロ波導入口がマイクロ波導入板で気密に封止された反応容器と、この反応容器内に配設された試料台と、この試料台に高周波電界または直流電界を印加する手段と、前記マイクロ波導入板と前記試料台との間に設けられ、マイクロ波を透過させるまたはプラズマを導入させる孔を有する対向電極板と、この対向電極板を接地する手段と、この対向電極板に高周波電界または直流電界を印加する手段と、これらを切り換える手段とを備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/31
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/3065
, H05H 1/46
H01L 21/31 C
, C23C 16/50
, C23F 4/00 D
, H05H 1/46 B
, H01L 21/302 N
