細胞をパターン状に接着するための基板作製法

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：三枝英二 (外1名) , 三枝英二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-337712
公開番号（公開出願番号）：特開平11-151086
出願日： 1997年11月20日
公開日（公表日）： 1999年06月08日
要約：

【要約】【課題】細胞をパターン状に整列するための基板に関する。【解決手段】細胞の接着を阻害する材料を含む微細パターンを有する基板;およびレジスト材料を被覆した基板上にリソグラフィ法により微細構造のパターンを形成する工程、得られた微細パターン上に細胞の接着を阻害する材料を適用する工程および非パターン部分のフォトレジストを除去する工程を含む、細胞の接着を阻害する材料を含む微細パターンを備えた基板の作製法。

請求項（抜粋）：

細胞の接着を阻害する材料を含む微細パターンを有する基板。

IPC (3件)：

C12N 11/00 , C12N 5/06 , C12N 11/14

FI (3件)：

C12N 11/00 , C12N 11/14 , C12N 5/00 E

引用特許：

審査官引用 (5件)

細胞配列素子および細胞培養基板
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-035846 出願人：株式会社日立製作所
特開平3-007576
特開平3-007577

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