特許

J-GLOBAL ID：200903028733052080

薄膜形成装置

発明者： 盛田 陽一 ,  大迫 純一 ,  本庄 禎治 ,  宮井 清一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 松村 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-135363
公開番号（公開出願番号）：特開平6-322542
出願日： 1993年05月13日
公開日（公表日）： 1994年11月22日
要約：

【要約】[目的] コンパクトでしかも多層薄膜成形を効率的に行なうことができる装置を提供することを目的とする。[構成] 小型の真空薄膜形成装置において、複数の独立プロセスチャンバ21〜24を備え、ロードロックチャンバ11内で基板38が装着された基板ホルダ37を搬送機32によってこれらのプロセスチャンバ21〜24に順次移動させることによって、多層薄膜を連続して成膜できるようにしたものである。

請求項（抜粋）：

装置のほぼ中央部において基板を保持する基板ホルダが垂直な回転軸線の周囲を回転できるようになっているトランスファチャンバと、前記垂直な回転軸線に沿って前記基板ホルダを回転させるとともに、前記回転軸に対して垂直に放射状方向に前記基板ホルダを移動させる搬送機と、前記トランスファチャンバの外周側において軸線が放射状方向に延びるように配されており、前記基板ホルダによって保持されている基板上にそれぞれ薄膜を形成するようになっている複数のプロセスチャンバと、をそれぞれ具備することを特徴とする薄膜形成装置。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭60-052574
  
• 特開昭60-052574