特許

J-GLOBAL ID：200903028733523058

含硫黄ポリマー粒子の製造方法

発明者： 永井 康彦 ,  深井 知裕 ,  中山 靖士
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-110916
公開番号（公開出願番号）：特開平7-316296
出願日： 1994年05月25日
公開日（公表日）： 1995年12月05日
要約：

【要約】【目的】 再帰反射性を有した道路区画線、導光板等の用途に好適に利用できる高屈折率の含硫黄ポリマー粒子の製造方法を提供する。【構成】 下記一般式(I)で表されるジチオール化合物45〜55モル%、及び、1分子当たり少なくとも2個の反応性不飽和基を有する化合物55〜45モル%を、これら自体は溶解しかつこれらを重合させて得られる重合体は溶解しない溶媒中で、高分子分散剤を添加して反応させることを特徴とする含硫黄ポリマー粒子の製造方法。式中、R1 、R2 は、同一若しくは異なって、水素、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシル基、フェニル基、水酸基、塩素又は臭素を表す。nは1〜3の整数を表す。

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表されるジチオール化合物45〜55モル%、及び、1分子当たり少なくとも2個の反応性不飽和基を有する化合物55〜45モル%を、これら自体は溶解しかつこれらを重合させて得られる重合体は溶解しない溶媒中で、高分子分散剤を添加して反応させることを特徴とする含硫黄ポリマー粒子の製造方法。【化1】式中、R1 、R2 は、同一若しくは異なって、水素、炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシル基、フェニル基、水酸基、塩素又は臭素を表す。nは1〜3の整数を表す。

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平2-058001
  
• 特開昭63-019602