特許
J-GLOBAL ID：200903028738167780
マイクロレンズアレーの製造方法、それに用いる電解液および製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-018746
公開番号（公開出願番号）：特開2003-215311
出願日： 2002年01月28日
公開日（公表日）： 2003年07月30日
要約：
【要約】【課題】 簡便な方法により、低コストでマイクロレンズアレーを製造することができ、かつマイクロレンズの集積度と屈折率を自由に調節することができる、マイクロレンズアレーの製造方法、そのための電解液および製造装置を提供すること。【解決手段】 絶縁性基板上に導電性薄膜および光半導体薄膜をこの順に積層したマイクロレンズアレー作製基板を、pHが変化することにより水性液体に対する溶解性ないし分散性が低下する膜形成材料を含む水系の電解液に、少なくとも前記光半導体薄膜が電解液に接触するように配置した状態で、前記光半導体薄膜の選択領域に光を照射することにより、選択領域の光半導体薄膜と対向電極の間に電圧を印加し、前記光半導体薄膜の選択領域に前記材料を析出させてマイクロレンズアレー層を形成する工程を含む、マイクロレンズアレーの製造方法、ならびに前記製造方法に用いる電解液および製造装置。
請求項（抜粋）：
pHが変化することにより水性液体に対する溶解性ないし分散性が低下する膜形成材料を含む水系の電解液に、絶縁性基板に導電性薄膜と光半導体薄膜がこの順に積層して設けられたマイクロレンズアレー作製基板を、前記光半導体薄膜が電解液に接触するように配置した状態で、前記光半導体薄膜の選択領域に光を照射することにより、選択領域の光半導体薄膜と対向電極の間に電圧を印加し、前記光半導体薄膜の選択領域に前記材料を析出させてマイクロレンズアレー層を形成する工程を含む、マイクロレンズアレーの製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G02B 3/00 Z
, G02B 3/00 A
, G02B 1/10 A
2K009AA04
, 2K009BB02
, 2K009CC02
, 2K009DD01
, 2K009DD04
