特許

J-GLOBAL ID：200903028739632940

物質または溶液中物質濃度の把握のための多孔性シリコンを利用した分析方法ならびにかかる方法のための分析装置

発明者： クルーガー ミカエル ,  ベルガー ミカエル ,  トニーセン マーカス ,  アーレンズ-フィッシャー ルディガー ,  ルース ハンス
出願人/特許権者： フォルスチャンゼントラウム ユリック ゲッセルシャフト ミット ベスクランクター ハファング
代理人 (1件)： 堀 城之
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-531335
公開番号（公開出願番号）：特表2000-506267
出願日： 1997年02月28日
公開日（公表日）： 2000年05月23日
要約：

【要約】一分析方法において、多孔性シリコンを用いて、多孔性シリコンの細孔空間内に存在する物質ないしはその物質を含有する流体の屈折率に依存しての多孔性シリコンの光学的特性の変化に基づいて該物質ないしはその流体中濃度を検出ないしは測定する。多孔性シリコンを用いて物質を検出し、ないしは流体中の物質の濃度を測定するための分析装置は、その光学的特性が物質ないしは該物質を含有する流体の屈折率に依存するところの多孔性シリコンから少なくとも部分的に準備された構成要素を包含し、該多孔性シリコンの光学的特性の変化を該物質の検出ないしは多孔性シリコンの細孔空間内の該物質の濃度測定として把握できる。

請求項（抜粋）：

物質ないしは流体中のそれの濃度を、多孔性シリコンの細孔空間中に存在する該物質ないしは該物質を含有する流体の屈折率に依存しての多孔性シリコンの光学的特性の変化に基づいて検出ないしは測定することを特徴とする、多孔性シリコンを用いた分析方法。

IPC (3件)：

G01N 21/41 ,  G01N 21/01 ,  G01N 21/45

FI (3件)：

G01N 21/41 A ,  G01N 21/01 B ,  G01N 21/45 A