特許
J-GLOBAL ID：200903028743020305
プリント基板洗浄排水中の不純物除去方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
森 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-357045
公開番号（公開出願番号）：特開平6-121978
出願日： 1991年12月25日
公開日（公表日）： 1994年05月06日
要約：
【要約】【目的】 プリント基板洗浄排水中の不純物である微生物、金属イオン及び有機物を安価にかつ確実に除去する方法を提供し、これによりプリント基板洗浄に再使用できる処理水を供給することを可能にする。【構成】 プリント基板洗浄排水を、活性炭及び/又はイオン交換樹脂吸着除去工程14、15と固定床型三次元電極5を使用する電気化学的除去工程2により処理して前記不純物を除去する。前記電気化学的除去工程は従来の紫外線照射等に比べて微生物滅菌効率が高く、かつ金属イオン及び有機物の少なくとも一部を吸着又は分解により除去できるため、吸着除去工程と組み合わせることにより、前記洗浄排水中の不純物をほぼ完全に除去することができる。
請求項（抜粋）：
プリント基板洗浄排水中の不純物除去方法において、該不純物の活性炭及び/又はイオン交換樹脂吸着除去工程と固定床型三次元電極を使用する電気化学的除去工程を含んで成ることを特徴とする不純物除去方法。
IPC (6件)：
C02F 1/28
, C02F 1/32
, C02F 1/42
, C02F 1/461
, C02F 9/00
, H05K 3/26
