特許
J-GLOBAL ID：200903028744066694
プラズマエッチング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-175090
公開番号（公開出願番号）：特開平8-045903
出願日： 1994年07月27日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：
【要約】【目的】プラズマエッチングにおけるパーティクルの発生や経時変化を防止する。【構成】バイアス電力と放電電力の両方をオン/オフ変調させ、かつ両方が同時にオンしないようにさせる。【効果】処理室壁面へのエッチング反応生成物の吸着・堆積がなくなるため、クリーンで再現性のよいエッチングが行える。
請求項（抜粋）：
処理室内への放電電力の投入と被エッチング試料へのバイアス電力の投入を間欠的に行い、かつ、前記放電電力と前記バイアス電力を同時に投入しないことを特徴とするプラズマエッチング方法。
IPC (2件)：
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