特許

J-GLOBAL ID：200903028747389273

電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法およびこれに使用するエッチング装置

発明者： 中田 泰彦 ,  嶋田 幹也 ,  棚橋 正和 ,  中村 克之 ,  小島 浩一
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-214824
公開番号（公開出願番号）：特開2000-030979
出願日： 1998年07月13日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：

【要約】【課題】 本発明は過剰なエッチングを抑制し、単位面積当たりの静電容量の高い電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法を提供するものである。【解決手段】 酸性水溶液の入ったエッチング槽1a〜1cを複数設ける。エッチング槽1a〜1cにアルミニウム箔2を順次通過させる。アルミニウム箔2に電圧を印加してエッチングを行い、ピットを形成して電解コンデンサ用アルミニウム電極箔を製造する。エッチングを実行するに際しては、エッチング槽1a〜1cに入った酸性水溶液3の各水素イオン濃度を、それぞれのエッチング槽1a〜1cで独立して制御する。

請求項（抜粋）：

酸性水溶液の入ったエッチング槽にアルミニウム箔を流し、アルミニウム箔に電圧を印加してエッチングを行い、前記アルミニウム箔上にピットを形成して電解コンデンサ用アルミニウム電極箔を製造するに際し、エッチング槽を複数設け、前記複数のエッチング槽をアルミニウム箔が順次通過し、前記エッチング槽に入った酸性水溶液の各水素イオン濃度を、それぞれのエッチング槽で独立して制御してエッチングを実行する電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法。

IPC (2件)：

H01G 9/04 304 ,  C25F 3/04

FI (2件)：

H01G 9/04 304 ,  C25F 3/04 A