特許
J-GLOBAL ID：200903028777915751
半導体産業用密閉容器とその清澄度保持方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
中尾 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-346836
公開番号（公開出願番号）：特開平10-181881
出願日： 1996年12月26日
公開日（公表日）： 1998年07月07日
要約：
【要約】【課題】高性能半導体産業において使用される高度清澄空間を保持する。【解決手段】密閉容器自身に化学的汚染物質を捕捉分離する機能を付与し、密閉後所定の時間が経過すれば、器内に存在する有機系および無機系の化学汚染物質を、もとの濃度に関係なく所定の水準以下に低減し維持する。容器中に気体透過膜で包まれた活性炭およびイオン交換体を装着する。イオン交換体は、強酸性陽イオン交換体と強塩基性陰イオン交換体または弱塩基性陰イオン交換体、または強塩基性陰イオン交換体と弱酸性陽イオン交換体とを組合わせて使用することが好ましい。活性炭およびイオン交換体は、好ましくは不織布等の繊維状に形成して用いる。キャリアボックス、ウエハストッカーなどに用い、ウエハーの安定性確保を可能とし、製造工程での省力化と生産性の向上に極めて有効な手段となる。
請求項（抜粋）：
半導体製造工程において使用される高度清澄空間を保持するための開閉式の密閉容器であって、容器中に気体透過膜に密封した活性炭およびイオン交換体が装着されていることを特徴とする半導体産業用密閉容器。
IPC (7件)：
B65G 49/07
, B01D 46/54
, B01D 53/34
, B01D 53/81
, B01J 20/20
, B01J 47/12
, H01L 21/68
B65G 49/07 L
, B01D 46/54
, B01J 20/20 Z
, B01J 47/12 E
, B01J 47/12 H
, H01L 21/68 T
, B01D 53/34 B
