特許

J-GLOBAL ID：200903028778456840

シクロヘキサノールの製造方法

発明者： 渡辺 里花 ,  中西 章夫
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-098728
公開番号（公開出願番号）：特開平10-287604
出願日： 1997年04月16日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：

【要約】【課題】 単位触媒量当たりのシクロヘキサノールの生産量を多くし、平衡転化率より高い濃度のシクロヘキサノールを得る方法を提供する。さらに連続運転を完全に停止せずに触媒の再生、交換、取り出しなどを行う方法を提供する。【解決手段】 シクロヘキセンと水との平衡反応によってシクロヘキサノールを製造する方法において、固体酸触媒を充填した複数個の反応器を蒸留塔に独立に連結させ、該反応器の少なくとも2個でシクロヘキセンと水との反応を行い、各反応器で得られた反応液を蒸留塔に供給し、該蒸留塔において、シクロヘキセンに富む成分とシクロヘキサノールに富む成分とに分離し、該蒸留塔の塔底付近からシクロヘキサノールに富む成分を得ることを特徴とするシクロヘキサノールの製造方法。

請求項（抜粋）：

シクロヘキセンと水との平衡反応によってシクロヘキサノールを製造する方法において、固体酸触媒を充填した複数個の反応器を蒸留塔に独立に連結させ、該反応器の少なくとも2個でシクロヘキセンと水との反応を行い、各反応器で得られた反応液を蒸留塔に供給し、該蒸留塔において、シクロヘキセンに富む成分とシクロヘキサノールに富む成分とに分離し、該蒸留塔の塔底付近からシクロヘキサノールに富む成分を得ることを特徴とするシクロヘキサノールの製造方法。

IPC (6件)：

C07C 35/08 ,  B01J 23/14 ,  B01J 29/06 ,  C07C 29/04 ,  C07C 29/80 ,  C07B 61/00 300

FI (6件)：

C07C 35/08 ,  B01J 23/14 X ,  B01J 29/06 X ,  C07C 29/04 ,  C07C 29/80 ,  C07B 61/00 300