特許
J-GLOBAL ID：200903028778964004
高分子イオン交換膜とその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下出 隆史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-314162
公開番号（公開出願番号）：特開平7-138390
出願日： 1993年11月19日
公開日（公表日）： 1995年05月30日
要約：
【要約】【目的】 高分子イオン交換膜のイオン導電特性の向上を図る。【構成】 陽極20と陰極30の間に挟持される電解質膜10では、その主鎖骨格をなす分子鎖10cは、膜厚方向に沿って配列している。そして、この分子鎖10cに枝分かれして結合した側鎖の末端にはスルホン基10xが存在し、その周囲がクラスターとなっている。この電解質膜10を作製するには、まず、テトラフルオロエチレンとパーフルオロビニルエーテルとを加熱環境下において共重合させるとともに押し出し成形する。そして、得られた柱状のバルクを、押し出し方向と直交する方向に沿って薄膜状に切断し、切断後の薄膜体を加水分解処理する。
請求項（抜粋）：
陽イオンまたは陰イオンに対するイオン交換基を有する高分子樹脂からなる薄膜であり、陽陰いずれかのイオンを膜厚方向に沿って選択的に透過する高分子イオン交換膜であって、前記高分子樹脂の主鎖骨格をなす分子鎖は、前記高分子イオン交換膜の膜厚方向に沿って配列されていることを特徴とする高分子イオン交換膜。
IPC (6件)：
C08J 5/22
, B01J 47/12
, B29C 47/06
, B29C 47/56
, B29C 69/00
, C25B 13/08
