特許

J-GLOBAL ID：200903028785483259

アモルファス・シリコン感光体を用いる電子写真法

発明者： 迫 裕之 ,  堤 真洋 ,  渡辺 優
出願人/特許権者： 三田工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 郁男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-044451
公開番号（公開出願番号）：特開平8-016049
出願日： 1995年03月03日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：

【要約】【構成】 アモルファス・シリコン感光体に主帯電、画像露光、現像、転写前帯電及び転写を行う電子写真法において、感光体表面の酸化度( SiO/SiC)x及び放電生成物付着量(mol/cm2 )yが式:x≦30 及び式:y≦a・exp(-bx) (式中、aは2.2×10-9の数、bは2.0の数である)を満足する範囲となるように感光体雰囲気の維持及び現像ならびにクリーニング時の表面研磨を行うことを特徴とするアモルファス・シリコン感光体を用いる電子写真法。【効果】 本発明によれば、上記2つの式での条件設定により、画像流れを防止するために、必要以上に感光体雰囲気の排気や感光体表面の研磨を行う必要がないため、感光体寿命の低下をもたらすおそれがなく、しかもコスト的にも極めて有利である。例えば、本発明によれば、10万枚以上、特に100万枚以上にわたって、画像流れのない良好な画像を安定に形成することができる。

請求項（抜粋）：

アモルファス・シリコン感光体に主帯電、画像露光、現像、転写前帯電及び転写を行う電子写真法において、感光体表面の酸化度( SiO/SiC)x及び放電生成物付着量(mol/cm2 )yが式(1):x≦30 (1)及び式(2):y≦a・exp(-bx) (2)式中、aは2.2×10-9の数、bは2.0の数である、を満足する範囲となるように感光体雰囲気の維持及び現像ならびにクリーニング時の表面研磨を行うことを特徴とするアモルファス・シリコン感光体を用いる電子写真法。

IPC (3件)：

G03G 21/00 530 ,  G03G 5/08 105 ,  G03G 21/10