特許
J-GLOBAL ID：200903028793579613
タブレットの表面処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西田 新
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-285671
公開番号（公開出願番号）：特開平6-136567
出願日： 1992年10月23日
公開日（公表日）： 1994年05月17日
要約：
【要約】【目的】ペン等により図形や文字を恰も紙面に書くが如き自然な感触を得られるような微細パターン形状の凹凸を作為的に正確に且つ容易に形成できるようなタブレットの表面処理方法を提供する。【構成】所要の微細な表面パターンを透孔により形成したパターンマスクを設ける。基材または該基材の表面に形成したハードコート層に感光材を塗布し、この感光材を、前記パターンマスクの透孔を通じ露光し、この感光材の露光部分または未露光部分を除去して前記表面パターンを転写したエッチングマスクを形成する。このエッチングマスクにより基材またはハードコート層をエッチングする。従って、タブレットの表面に、パターンマスクに形成した所要の表面パターン通りの微細な凹凸パターンを作為的に正確且つ容易に形成でき、恰もペンで紙面に図形等を書くような違和感の無い感触を得られる表面を形成できる。
請求項（抜粋）：
タブレットにおける手書き入力すべき文字や図形をペン等により書くための表面を処理する方法において、基材の表面に、下層側および上層側の2種のハードコート層を蒸着又は塗布の手段により2層構造に形成し、この上層側ハードコート層の全表面に感光材を塗布し、この感光材の上に、所要の微細な表面パターンが透孔により形成されたパターンマスクを対面させた後に、このパターンマスクの前記透孔を通じ前記感光材を露光して該感光材によるエッチングマスクを形成し、このエッチングマスクにより前記上層側ハードコート層のみをエッチングして該ハードコート層の残存部分と前記下層側ハードコート層の露出部分とにより前記パターンマスクの表面パターンに対応する微細な凹凸パターンを形成し、その後に、前記エッチングマスクを除去することを特徴とするタブレットの表面処理方法。
IPC (2件)：
C23F 1/00
, G06F 3/03 310
