特許
J-GLOBAL ID:200903028800952066

画像形成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 平木 祐輔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-154527
公開番号(公開出願番号):特開2000-348647
出願日: 1999年06月02日
公開日(公表日): 2000年12月15日
要約:
【要約】【課題】 二次電子放出防止、真空度劣化防止構造を配設する。【解決手段】 炭素を含む化合物からなる信頼性劣化防止層を蛍光体9の表面、又は蛍光体上のメタルバック13の表面に設けることにより、二次電子放出防止構造、真空度劣化防止構造を構築する。
請求項(抜粋):
電界放出電子源を有するカソード基板と、蛍光体を有するアノード基板とを含む画像形成装置において、炭素を含む化合物からなる薄膜を前記蛍光体表面に形成したことを特徴とする画像形成装置。
IPC (2件):
H01J 31/12 ,  H01J 29/28
FI (2件):
H01J 31/12 C ,  H01J 29/28
Fターム (9件):
5C036BB10 ,  5C036EE01 ,  5C036EE05 ,  5C036EF01 ,  5C036EF06 ,  5C036EG01 ,  5C036EG36 ,  5C036EH08 ,  5C036EH11

前のページに戻る