特許
J-GLOBAL ID：200903028802044736
液体処理方法及び液体処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
小谷 悦司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-272145
公開番号（公開出願番号）：特開2000-093972
出願日： 1998年09月25日
公開日（公表日）： 2000年04月04日
要約：
【要約】【課題】 従来の針電極/平板電極を用いた電気的液体処理装置では比較的印加電圧を低く抑えられるが、従来の平板電極対の装置では高電圧を印加する必要があり、エネルギーコストが高くつく。また上記いずれの装置もプラズマ発生部位が限定されないから、不浄化処理領域が存在する様になり、処理効率が悪い。【解決手段】 処理槽20の平板電極11,12間に、貫通孔14を有する電気絶縁性隔離壁13を設ける。被処理液10は貫通孔14を介して、前記隔離壁13により分離された導入側処理槽20aから取出側処理槽20bに通過する。電圧を印加すると、貫通孔14において電界が集中してプラズマが発生する。被処理液10は貫通孔14を通過する際にプラズマ処理される。
請求項（抜粋）：
狭窄部に被処理液を通過させつつ、前記狭窄部にプラズマを発生させることを特徴とする液体処理方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C02F 1/46 Z
, C02F 11/12 E
4D059AA01
, 4D059AA03
, 4D059BF20
, 4D059BK01
, 4D059BK21
, 4D061AA08
, 4D061AB01
, 4D061AB15
, 4D061AB18
, 4D061AC06
, 4D061AC08
, 4D061BA13
, 4D061BB07
, 4D061BB11
, 4D061BB16
