特許

J-GLOBAL ID：200903028809097878

ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの製造方法

発明者： 酒井 淳一 ,  魚浜 操 ,  高橋 勝治
出願人/特許権者： 大日本インキ化学工業株式会社
代理人 (1件)： 高橋 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-106591
公開番号（公開出願番号）：特開2000-297062
出願日： 1999年04月14日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：

【要約】【課題】 エポキシ化合物(A)と(メタ)アクリル酸(B)との反応において主生成物として1級水酸基を有するヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの製造方法を提供すること。【解決手段】 エポキシ化合物(A)と(メタ)アクリル酸(B)とを、アルカリ土類金属塩(C)またはアルカリ土類金属の酸化物(D)の存在下で反応させ、エポキシ基を(メタ)アクリロイル化することにより得られる水酸基を有する(メタ)アクリレートを得る(メタ)アクリレートの製造方法。

請求項（抜粋）：

エポキシ化合物(A)と(メタ)アクリル酸(B)とを、アルカリ土類金属塩(C)又はアルカリ土類金属の酸化物(D)の存在下で反応させて、エポキシ基を(メタ)アクリロイル化することにより得られる水酸基を有する(メタ)アクリレートを得ることを特徴とする(メタ)アクリレートの製造方法。

IPC (8件)：

C07C 67/26 ,  B01J 21/10 ,  B01J 27/138 ,  B01J 31/04 ,  B01J 31/12 ,  C07C 69/54 ,  C08G 59/17 ,  C07B 61/00 300

FI (8件)：

C07C 67/26 ,  B01J 21/10 X ,  B01J 27/138 X ,  B01J 31/04 X ,  B01J 31/12 X ,  C07C 69/54 Z ,  C08G 59/17 ,  C07B 61/00 300

Fターム (23件)：

4H006AA02 ,  4H006AC28 ,  4H006AC41 ,  4H006AC48 ,  4H006BA06 ,  4H006BA07 ,  4H006BA29 ,  4H006BA30 ,  4H006BA32 ,  4H006BA37 ,  4H006BJ50 ,  4H006BN10 ,  4H006KA19 ,  4H006KE20 ,  4H039CA60 ,  4H039CA66 ,  4H039CH70 ,  4J036AD08 ,  4J036AJ01 ,  4J036AJ02 ,  4J036AJ03 ,  4J036AJ05 ,  4J036CA21