特許
J-GLOBAL ID：200903028813964543
超微粉シリカの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-044508
公開番号（公開出願番号）：特開2000-247626
出願日： 1999年02月23日
公開日（公表日）： 2000年09月12日
要約：
【要約】【課題】高純度かつ高比表面積の超微粉シリカを、シリカ原料を用い、工業的な規模で製造すること。【解決手段】シリカ粉末と、金属シリコン粉末及び/又は炭素粉末からなる還元剤と、水とを含む混合原料を、還元雰囲気下の高温で熱処理をしてSiO含有ガスを生成させ、それを速やかに酸素を含む雰囲気中で冷却し、微粒子を捕集することを特徴とする超微粉シリカの製造方法であり、特に混合原料が、固形分濃度20〜60重量%の水系スラリーであって、その熱処理が火炎であることを特徴し、更には冷却が、酸素を含むガスの供給による強制冷却であることを特徴とするものである。
請求項（抜粋）：
シリカ粉末と、金属シリコン粉末及び/又は炭素粉末からなる還元剤と、水とを含む混合原料を、還元雰囲気下の高温で熱処理をしてSiO含有ガスを生成させ、それを速やかに酸素を含む雰囲気中で冷却し、微粒子を捕集することを特徴とする超微粉シリカの製造方法。
Fターム (18件)：
4G072AA28
, 4G072BB05
, 4G072CC11
, 4G072CC16
, 4G072GG03
, 4G072HH01
, 4G072HH14
, 4G072JJ02
, 4G072JJ03
, 4G072LL01
, 4G072LL05
, 4G072MM01
, 4G072PP17
, 4G072RR03
, 4G072RR04
, 4G072RR21
, 4G072UU08
, 4G072UU09
