特許

J-GLOBAL ID：200903028822780269

レーザ加工機

発明者： 深井 恒 ,  折笠 剛 ,  木上 博之 ,  林崎 公之 ,  小野 敬之 ,  大川 雅由
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-344562
公開番号（公開出願番号）：特開平10-166173
出願日： 1996年12月09日
公開日（公表日）： 1998年06月23日
要約：

【要約】【課題】 エキシマレーザ光をマスクを介して照射するレーザ加工において、マスクの交換や加工パターンの変更の際に生じるマスクの位置ずれを容易にかつ速やかに調整でき、加工タクトを短縮できるレーザ加工機を提供する。【解決手段】 複数の加工パターン9a、9b...を備えたマスク9を着脱自在に保持する位置調整機構31と、マスク9に隣接して配置された姿勢検出手段30によるマスク姿勢の検出結果に基づいてマスク9の位置や姿勢を調整する調整手段を設け、マスクの交換や加工パターンの変更の際に生じるマスクの位置ずれを姿勢検出手段30の一対の非接触式測長器30a、30bにより検出し、その検出結果に基づいて制御系15がマスクの回動および移動量を算出して、移動手段16を介して位置調整機構31を作動させて、レーザ光の光軸に対するマスク9の位置を速やかにかつ精度良く調整する。

請求項（抜粋）：

加工パターンを形成したマスクを介して被加工部材の加工面にレーザ光を照射して、被加工部材に前記マスクの加工パターンに相応する形状の加工をするレーザ加工機において、前記マスクを着脱自在に保持しかつ該マスク内に複数設けられた加工パターンを切り換えることができる位置調整機構と、該位置調整機構に保持されたマスクの姿勢を検出してレーザ光の光軸に対して前記マスクの加工パターン部を一定の姿勢に保つように前記マスクを調整する手段とを備えていることを特徴とするレーザ加工機。

IPC (3件)：

B23K 26/06 ,  B23K 26/00 ,  B41J 2/16

FI (3件)：

B23K 26/06 J ,  B23K 26/00 M ,  B41J 3/04 103 H