特許

J-GLOBAL ID：200903028828356272

真空成膜装置

発明者： 阿部 淳博 ,  金 康憲
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-163943
公開番号（公開出願番号）：特開平11-350136
出願日： 1998年06月11日
公開日（公表日）： 1999年12月21日
要約：

【要約】【課題】 装置構成の大型化や複雑化を招来せずに、内部が真空状態となされた真空槽の大気圧による変形によってフィルム体の走行が影響を受けないようにして、成膜の良好性と、使用及び保守上における作業の容易化、安全化を図る。【解決手段】 成膜源物質9及びフィルム体7を収納し排気装置4により内部が真空状態となされる真空槽1と、略々同形状の一対のサイドプレートによって支持され真空槽1内でフィルム体7を走行させるローラ体5,6とを備えている。各サイドプレートは、真空槽1に対して独立して配設されている。

請求項（抜粋）：

成膜源物質及び被成膜部材を収納し、排気装置により内部が真空状態となされる真空槽と、略々同形状の一対のサイドプレートを有して構成され、上記真空槽中に被成膜部材となるフィルム体を走行させる走行操作機構と、上記各サイドプレートを支持するベースプレートとを備え、上記各サイドプレート及びベースプレートは、上記真空槽に対して独立して配設されていることを特徴とする真空成膜装置。