特許

J-GLOBAL ID：200903028842870981

ビスフェノールAの製造方法

発明者： 井上 薫 ,  大久保 英主 ,  寺嶋 隆
出願人/特許権者： 三井東圧化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-141828
公開番号（公開出願番号）：特開平8-208545
出願日： 1995年06月08日
公開日（公表日）： 1996年08月13日
要約：

【要約】【目的】 ビスフェノールAを工業的に有利な不均一触媒を用いてアセトンとフェノールから高転化率、高選択率で製造する方法を提供する。【構成】 メルカプト基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサン及び酸の存在下に、フェノールとアセトンとを反応させることを特徴とするビスフェノールAの製造方法。

請求項（抜粋）：

メルカプト基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサン及び酸の存在下に、フェノールとアセトンとを反応させることを特徴とするビスフェノールAの製造方法。

IPC (6件)：

C07C 39/16 ,  C07C 37/16 ,  C07C 37/20 ,  C08G 77/28 NUJ ,  C08L 83/04 LRM ,  C07B 61/00 300