特許

J-GLOBAL ID：200903028848577011

露光装置および露光方法

発明者： 大沼 哲士
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-128724
公開番号（公開出願番号）：特開2001-313241
出願日： 2000年04月28日
公開日（公表日）： 2001年11月09日
要約：

【要約】【課題】 大型の液晶基板等を露光するときのチャックのたわみ等によるフォーカスずれを防ぐ。【解決手段】 大面積のチャック4上に液晶基板であるプレートWを載置して、マスクMとともにY軸方向へ走査しながらスキャン露光を行なう。予め、チャック4の保持面の高さ位置(Z位置)を少なくとも4点においてZセンサ6によって計測し、得られた3次元座標からチャック4の保持面を近似する楕円放物面等を求めておく。この近似面に従って、スキャン露光中のチャック4の高さ位置を制御することで、チャック4のたわみによる焦点ぼけを防ぐ。

請求項（抜粋）：

原版のパターンを基板に投影する光学投影手段と、前記基板を保持する保持面と該保持面を少なくとも2次元的に移動させるステージ駆動手段を有する基板保持手段と、前記保持面の少なくとも4点においてそれぞれ高さ位置を計測する計測手段と、該計測手段の出力に基づいて得られた少なくとも4点の3次元座標から前記保持面を近似する立体幾何学面を算出する演算手段を有する露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/22 ,  G03F 9/02

FI (4件)：

G03F 7/20 501 ,  G03F 7/22 Z ,  G03F 9/02 Z ,  H01L 21/30 514 C

Fターム (14件)：

2H097AB09 ,  2H097BA01 ,  2H097BA10 ,  2H097GB00 ,  2H097KA03 ,  2H097KA29 ,  2H097KA38 ,  2H097LA12 ,  5F046BA05 ,  5F046CC05 ,  5F046CC20 ,  5F046DA05 ,  5F046DB04 ,  5F046DC09