特許
J-GLOBAL ID：200903028866734639
電子ビーム装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 敬四郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-060166
公開番号（公開出願番号）：特開平5-266789
出願日： 1992年03月17日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：
【要約】【目的】 小型で寸法精度の高い静電レンズを有する電子ビーム装置の製造方法に関し、形状精度の高い静電レンズを有する電子ビーム装置を作製することのできる電子ビーム装置の製造方法を提供することである。【構成】 下地上に絶縁体層と導電体層の交互積層構造を形成する工程と、前記交互積層構造に対して円形開口を有するマスクを介して選択的にX線を照射し、交互積層構造を一度にX線で被爆させる工程と、前記交互積層構造のX線被爆領域を選択的に除去して円形開口を形成する工程とを含む。
請求項（抜粋）：
下地(1)上に絶縁体層(3)と導電体層(5)の交互積層構造を形成する工程と、前記交互積層構造に対して円形開口(6)を有するマスク(7)を介して選択的にX線(8)を照射し、交互積層構造を一度にX線で被爆させる工程と、前記交互積層構造のX線被爆領域(9)を選択的に除去して円形開口(10)を形成する工程とを含む電子ビーム装置の製造方法。
IPC (3件)：
H01J 9/02
, H01J 37/28
, H01L 21/027
