特許

J-GLOBAL ID：200903028879362153

半導体基板の洗浄装置

発明者： 貝川 裕之
出願人/特許権者： ローム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-171433
公開番号（公開出願番号）：特開平8-033875
出願日： 1994年07月22日
公開日（公表日）： 1996年02月06日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 半導体装置の製造における半導体基板の薬品処理後のウエハー洗浄において、バクテリア等の発生しない純水の給水機構を備えた洗浄装置を提供することを目的とする。【構成】 半導体基板を洗浄するための純水を供給するシャワー用配管の終端部に排出手段を設けたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

半導体装置の製造における半導体基板の洗浄装置であって、半導体基板を洗浄するための純水を供給するシャワー用配管の終端部に排出手段を設けたことを特徴とする半導体基板の洗浄装置。

IPC (2件)：

B08B 3/10 ,  H01L 21/304 341

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平4-206637
  
• 特開昭54-149585
  
• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-346536   出願人：シャープ株式会社

審査官引用 (3件)

• 特開平4-206637
  
• 特開昭54-149585
  
• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-346536   出願人：シャープ株式会社