特許

J-GLOBAL ID：200903028895367866

荷電粒子ビーム出射方法及びその出射装置

発明者： 田所 昌宏 ,  平本 和夫 ,  廣田 淳一 ,  西 政嗣
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 高田 幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-097835
公開番号（公開出願番号）：特開平10-261500
出願日： 1993年06月25日
公開日（公表日）： 1998年09月29日
要約：

【要約】【課題】出射ビームのエネルギーが変化しても常に高効率でビーム出射ができる。【解決手段】制御装置10は、出射ビームのエネルギーに応じて高周波信号発生装置11を制御する。この制御により、高周波信号発生装置11はそのエネルギーに応じた必要な周波数成分を有する高周波信号15を発生させる。高周波信号15はゲインコントローラ13により電極7に印加すべき振幅に調整され、高周波電圧16として電極7に印加される。照射室9では放射線モニター8で照射線量を測定し、比較器12は放射線モニター8から出力される照射線量の測定値17と、制御装置10から出力される照射線量の設定値14bとを比較し、測定値17が設定値14bとなるように、ゲインコントローラ13にゲインコントロール信号18を出力し、電極7に印加する高周波電圧16の振幅を制御する。

請求項（抜粋）：

加速器の周回軌道を周回する荷電粒子ビームを高周波電磁界を用いて出射する荷電粒子ビーム出射方法において、出射される前記荷電粒子ビームのエネルギーを用いて出射に使用する前記高周波電磁界の中心周波数及び周波数幅を求め、該中心周波数及び周波数幅を有する高周波電磁界を周回する前記荷電粒子ビームに印加して荷電粒子ビームの出射を行なうことを特徴とする荷電粒子ビーム出射方法。

IPC (3件)：

H05H 13/04 ,  G21K 5/04 ,  H05H 7/10

FI (3件)：

H05H 13/04 G ,  G21K 5/04 D ,  H05H 7/10

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ビーム出射方法及び出射装置並びにこれを用いた円形加速器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-154999   出願人：株式会社日立製作所