特許

J-GLOBAL ID：200903028896786552

陽極酸化皮膜及びそれを形成させる方法

発明者： 亀山 秀雄 ,  寺井 聡
出願人/特許権者： 亀山 秀雄
代理人 (1件)： 滝田 清暉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-078207
公開番号（公開出願番号）：特開平8-246190
出願日： 1995年03月08日
公開日（公表日）： 1996年09月24日
要約：

【要約】【目的】 25Å〜250Åの間で所望の細孔径分布を有する陽極酸化皮膜およびその形成方法を提供すること。【構成】 25Å〜250Åの間に細孔半径分布のピークを少なくとも一つ有することを特徴とする陽極酸化皮膜。

請求項（抜粋）：

25Å〜250Åの間に細孔半径分布のピークを少なくとも一つ有することを特徴とする陽極酸化皮膜。

IPC (3件)：

C25D 11/18 301 ,  C25D 11/18 ,  C25D 11/04 302

FI (3件)：

C25D 11/18 301 C ,  C25D 11/18 301 Z ,  C25D 11/04 302