特許
J-GLOBAL ID:200903028903014161

X線反射用光学素子およびそれを有するX線光学系

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-021577
公開番号(公開出願番号):特開平6-235797
出願日: 1993年02月10日
公開日(公表日): 1994年08月23日
要約:
【要約】【目的】 縮小投影光学系において、広い露光領域で該光学系の回折限界の解像力が得られるようにする。【構成】 複数の凸部または凹部が設けられた基板と該基板上に形成されたX線を反射する多層膜とでX線反射用光学素子1を構成した。そして、この光学素子1とパターンが形成されたマスク4と前記パターンを結像させる結像光学系とを備えたX線用光学系において、光学素子1で反射したX線を2次光源とした時の該2次光源の像が前記結像光学系の入射瞳50上または前記マスク4上もしくは入射瞳50とマスク4間の任意の位置のいずれかに結像するようにした。
請求項(抜粋):
複数の凸部または凹部が設けられた基板と該基板上に形成されたX線を反射する多層膜とを有するX線反射用光学素子。
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特表平3-504271
  • 特表平3-504271

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