特許

J-GLOBAL ID：200903028913983740

水処理装置

発明者： 西嶋 規世 ,  田中 哲也 ,  都築 浩一 ,  仲平 四郎
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 高崎 芳紘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-106315
公開番号（公開出願番号）：特開2000-296392
出願日： 1999年04月14日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：

【要約】【課題】 付着物層の成長による閉塞の影響を受けやすい要素について、付着物層の成長を効果的に抑制することのできるようにした水処理装置の提供。【解決手段】 水処理装置は、処理槽(前処理槽1、流動床処理槽30、濾過処理槽50)を備えると共に、前記処理槽に被処理水を導くための導水手段(接続流路9、流出樋37)や前記処理槽から処理済水を取り出すための集水手段(流出樋8、流出樋37、流出樋56)、それに前記処理槽同士を通水的に接続する通水接続手段(接続流路9、流出樋37)を備える。そして前記手段に紫外線ランプ57が設けられ、この紫外線ランプは、前記手段における流水路に大気中側から紫外線を照射できるようにされている。

請求項（抜粋）：

被処理水に所定の処理を施すための処理槽を備えると共に、前記処理槽に被処理水を導くための導水手段や前記処理槽から処理済水を取り出すための集水手段、それに前記処理槽同士を通水的に接続する通水接続手段を備えるか、または少なくとも前記各手段の何れか一つを備える水処理装置において、前記手段に、当該手段における流水路に大気中側から紫外線を照射できるようにして、紫外線ランプを設けたことを特徴とする水処理装置。

IPC (3件)：

C02F 1/32 ,  C02F 1/00 ,  C02F 3/08

FI (4件)：

C02F 1/32 ,  C02F 1/00 L ,  C02F 1/00 U ,  C02F 3/08 B

Fターム (18件)：

4D003AA14 ,  4D003AB02 ,  4D003AB03 ,  4D003CA02 ,  4D003CA07 ,  4D003CA10 ,  4D003DA09 ,  4D003DA16 ,  4D003EA12 ,  4D003EA25 ,  4D003FA01 ,  4D037AA01 ,  4D037AA08 ,  4D037AA11 ,  4D037AB03 ,  4D037BA18 ,  4D037CA02 ,  4D037CA12