特許
J-GLOBAL ID:200903028961661088
ジアリールジケトピロロピロール顔料の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岡部 正夫 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-263402
公開番号(公開出願番号):特開平8-120189
出願日: 1995年10月12日
公開日(公表日): 1996年05月14日
要約:
【要約】ジアリールジケトピロロ[3,4-c]ピロロ顔料(DPP)をコンディショニングする方法およびDPP成分を含有する固溶体の製造方法を提供する。この方法は、水性塩基性DMSO単独の中、または固溶体の場合には追加的成分との混合物中にDPPを溶解し、次に公知の方法によって、コンディショニングされ顔料または顔料固溶体を沈殿させることを特徴としている。
請求項(抜粋):
ジアリールジケトピロロ[3,4-c]ピロール顔料の製造方法において、(a)塩形成有効量の塩基と該塩基を可溶化するために十分な量の水とを含有するジメチルスルホキシド中にジアリールジケトピロロ[3,4-c]ピロールを溶解することによって顔料塩溶液をつくり、(b)該顔料塩溶液からジアリールジケトピロロ[3,4-c]ピロールを沈殿させて顔料懸濁物を形成し、そして(c)該顔料を単離することを特徴とする方法。
IPC (3件):
C09B 67/20
, C07D471/04 112
, C07D487/04 137
引用特許:
審査官引用 (2件)
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特開昭63-048279
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特開昭63-201189
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