特許
J-GLOBAL ID：200903028963404945
反射板の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-337975
公開番号（公開出願番号）：特開平7-198919
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年08月01日
要約：
【要約】【目的】 フォトリソプロセスにより、反射板表面の凹凸断面形状を自由に制御し、所望の反射板を提供することである。【構成】 本発明は、マスク材2と遮光材3よりなり、遮光材3によって光源の透過量を調整した露光マスク1を用いて、パターンニングすることで、凹凸形成層5の断面方向の光照射強度の制御ができる。これにより凹凸断面形状6の自由な形状制御が可能である。さらに、この上部に反射層を積層して反射板とする。
請求項（抜粋）：
基板上に凹凸形成層を有し、その上に反射層を積層した反射板の製造方法において、光の透過量が制御された露光マスクを用いて、凹凸の形成を行うことを特徴とする反射板の製造方法。
IPC (2件)：
G02B 5/08
, G02F 1/1335 520
