特許
J-GLOBAL ID：200903028973202879
ポリッシング装置の上軸機構
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-079929
公開番号（公開出願番号）：特開平5-277929
出願日： 1992年04月01日
公開日（公表日）： 1993年10月26日
要約：
【要約】【目的】 ターンテーブルの微少湾曲等に追従させ、かつ、キャリアプレートの上面全面を均等に押圧することにより、ウェーハの平面度と平滑度、とくに、平面度を向上させ得るポリッシング装置の上軸機構を提供することを目的とする。【構成】 上軸の下方には、該上軸の下端に固着された上板とキャリアプレート上面に当接する押圧板との間に加圧室が形成され、前記上軸には、前記押圧板の中心部に連結されて、その中心部を前記キャリアプレートに向けて接近離間可能に変位させる中押軸が移動可能に設けられていることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
キャリアプレートの下面に接着されたシリコンウェーハを研磨すべく、前記キャリアプレートの上面をターンテーブル上の研磨面に向けて押圧する上軸を備えたポリッシング装置の上軸機構において、前記上軸の下方には、該上軸の下端に固着された上板とキャリアプレート上面に当接する押圧板との間に加圧室が形成され、前記上軸には、前記押圧板の中心部に連結されて、その中心部を前記キャリアプレートに向けて接近離間可能に変位させる中押軸が移動可能に設けられていることを特徴とするポリッシング装置の上軸機構。
IPC (2件)：
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