特許
J-GLOBAL ID：200903028991495077
洗浄化粧品組成物及びその使用
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-500290
公開番号（公開出願番号）：特表平11-513998
出願日： 1997年06月06日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
要約：
【要約】本発明は、化粧品として許容される媒体中に、化粧品として許容される媒体中に、(A)洗浄ベース、及び(B)少なくとも一のカチオン性ポリマーと、少なくとも1の、弐(I)においてR1、R2、R3及びR4が同一または相違し、C1-C4アルキル基またはフェニル基を示し;R5がC1-C4アルキル基またはヒドロキシル基を示し;nが1から5の整数であり;mが1から5の整数であり;xは、アミン価が0.01から1meq/gとなるよう選択されるアミンシリコーンとを含むコンディショニングシステムを含むことを特徴とする新規なコンディショニング及び洗浄用組成物を開示する。本発明は、髪の洗浄及び手入れに有用である。
請求項（抜粋）：
化粧品として許容される媒体中に、(A)洗浄ベース、及び(B)少なくとも一のカチオン性ポリマー及び少なくとも一の下式(I):[式中、・R1、R2、R3及びR4は同一または相違し、C1-C4アルキル基またはフェニル基を示し、・R5はC1-C4アルキル基またはヒドロキシル基を示し、・nは1から5の整数であり、・mは1から5の整数であり、式中、Xはアミン価が0.01から1meq/gになるよう選択される]のアミン含有シリコーンを含むコンディショニングシステム、を含むことを特徴とする洗浄及びコンディショニング用組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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