特許

J-GLOBAL ID：200903028994475913

真空成膜装置

発明者： 二川 正康
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-109950
公開番号（公開出願番号）：特開2000-303173
出願日： 1999年04月16日
公開日（公表日）： 2000年10月31日
要約：

【要約】【課題】 多層膜成膜における生産効率の低下を防止し、装置寸法の増大を防止し得る真空成膜装置を提供する。【解決手段】 1つの成膜処理室5内に、ガラス基板6に2層膜の成膜を行うべく2種の成膜材料からなる2個のターゲット18a・18bが立設されている。各ターゲット18a・18bにガラス基板6を対向させるための基板起立具11a・11bが2個設けられる。各基板起立具11a・11bは、相互に独立した回転軸12a・12bを有してそれぞれの回転軸12a・12b周りに回転起立して保持したガラス基板6を各ターゲット18a・18bに対向可能とするように設けられる。各基板起立具11a・11bは、横臥したときに互いに重ならないように形成されている。

請求項（抜粋）：

1つの成膜処理室内に、基板に複数の成膜を行うべく各種の成膜材料からなる複数のターゲットが立設されている一方、上記各ターゲットに基板を対向させるための基板起立具が複数設けられ、かつ各基板起立具は、相互に独立した回転軸を有してそれぞれの回転軸周りに回転起立して保持した基板を各ターゲットに対向可能とするように設けられ、さらに、各基板起立具は、横臥したときに互いに重ならないように形成されていることを特徴とする真空成膜装置。

Fターム (4件)：

4K029BD01 ,  4K029DA08 ,  4K029JA01 ,  4K029JA02