特許
J-GLOBAL ID：200903028999059276
電子線描画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-244263
公開番号（公開出願番号）：特開平7-106222
出願日： 1993年09月30日
公開日（公表日）： 1995年04月21日
要約：
【要約】【構成】 複数の偏向歪補正要素を要素単位に分割し、分割した補正要素の計算を、並列に配置したプロセッサ12で計算し、計算処理時間が平均化するように、次数の低い計算は複数まとめて処理する。並列に配置したプロセッサ12は、別に設けた計算制御回路11によって計算を開始し、その結果を電子ビーム駆動回路14に設定する構成とした。さらに、描画領域の移動要求が発生する前に、予め先取り計算を行ない、補正係数、及び偏向データを用意した。【効果】 プロセッサの処理時間を平均化させ、回路規模を小型化することが可能となる。さらに、電子ビームの偏向位置を移動するための要求が発生した時に予め準備した最新の計算結果を高速に設定できるため、回路の高速化が図れる。
請求項（抜粋）：
電子ビームの偏向領域(フィールド)に存在する図形パターンの密度によって試料台を可変速に連続移動させる手段と、前記偏向領域を複数のサブフィールドに分割し、それらの領域に電子ビームを偏向することで図形パターンを描画する手段を備えた電子線描画装置であって、連続移動する試料台の現在の位置とサブフィールド中心位置の差を入力信号として偏向量を求め、前記偏向量から偏向歪補正係数を計算する手段と、前記偏向歪補正係数から図形パターンの偏向歪補正を行なう手段において、補正要素別に並列に配置したプロセッサを用いて、前記偏向量と偏向歪補正係数を分散して計算する手段を備え、図形パターンを描画している間に次のサブフィールド中心位置を先取りで入力し、かつ移動している試料台の最新の試料台位置を入力して偏向歪補正回路へ与えて偏向量と補正係数を計算する手段を備え、前記の計算が一回終わると再び最新の試料台位置を入力して前記計算を再び実行し、これを繰返して常に計算させて偏向位置の移動に必要な最新の偏向量と補正係数を繰返し計算によって用意する手段を備え、かつ、前記繰返し計算で得られた偏向量と補正係数をプロセッサの外部で一括して保持する保持手段を備え、電子ビームを移動する時に前記保持手段の内容を該当する補正回路と電子ビーム駆動回路へ一回の設定動作で設定する手段を備えた電子線描画装置。
FI (2件)：
H01L 21/30 541 D
, H01L 21/30 541 L
