特許
J-GLOBAL ID：200903029011048190
X線発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡田 英彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-007040
公開番号（公開出願番号）：特開2000-252096
出願日： 1998年01月16日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：
【要約】【課題】 プラズマ発生用レーザ光パルスによってターゲット物質から飛散する微粒子に光を照射して帯電させ、帯電した微粒子に電磁力を加えてX線経路からそらせる装置において、微粒子の発生タイミングと帯電用の光の照射タイミングを確実に調整する。【解決手段】 そのために、一つのレーザ光パルス発生装置2からのレーザ光パルスを分岐し、一方1aをプラズマ発生用に用い、他方1cを帯電用に用いる。帯電用パルスはプラズマ発生用パルスよりも遅れて照射領域36に到達することが好ましく、かつ複数パルスが次々に到達して実質的時間幅が増大していることが好ましい。
請求項（抜粋）：
レーザ光に照射されるとプラズマを発生するターゲット物質と、そのプラズマから発生するX線の経路を挟んで配置された一対の電極と、その一対の電極間に電圧を印可する電圧発生装置と、レーザ光パルス発生装置と、そのレーザ光パルス発生装置で発生したレーザ光パルスを分岐する装置と、分岐された一方のレーザ光パルスを前記ターゲット物質に照射する第1光学装置と、分岐された他方のレーザ光パルスを前記一対の電極と前記ターゲット物質の間の領域に照射する第2光学装置とを有するX線発生装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05G 1/00 K
, G21K 5/02 X
4C092AA06
, 4C092AB12
, 4C092AB21
, 4C092CD08
