特許

J-GLOBAL ID：200903029014991925

インライン型露光装置

発明者： 藪田 光男
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-012439
公開番号（公開出願番号）：特開平8-203811
出願日： 1995年01月30日
公開日（公表日）： 1996年08月09日
要約：

【要約】【目的】 露光装置の露光レシピを入力すれば、塗布現像装置の塗布現像レシピをも同時に設定することができ、しかもデバイス毎あるいは層毎の塗布現像条件を露光装置側で統合的にレシピの設定を行うことができ、レシピの管理が容易で、しかも装置コストが安価なインライン型露光装置を提供すること。【構成】 塗布現像装置部34が露光装置部32にインライン化されたインライン型露光装置30であって、露光装置部32のメインコントローラ36へのキーボード32から、塗布現像装置部34の塗布現像処理を制御するための塗布現像条件を入力可能に構成してある。露光装置部32のメインコントローラ36が、塗布現像装置部34の塗布現像処理を行うユニットコントローラ48を制御するように構成してある。塗布条件のレシピが、露光条件のレシピに従属するように、フォトリソグラフィー加工されるデバイス毎および層毎に記憶装置40に記憶される。

請求項（抜粋）：

塗布現像装置部が露光装置部にインライン化されたインライン型露光装置であって、露光装置部のメインコントローラへの入力手段から、塗布現像装置部の塗布現像処理を制御するための塗布現像条件を入力可能に構成してあるインライン型露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 569 D