特許
J-GLOBAL ID:200903029023519856

走査型プローブ顕微鏡による溝形状の解析方法およびディスク基板または導光板の評価方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 大島 正孝 ,  白石 泰三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-001375
公開番号(公開出願番号):特開2005-195433
出願日: 2004年01月06日
公開日(公表日): 2005年07月21日
要約:
【課題】 光ディスク基板、導光板などの溝形状測定において、その形状の粗さの定量化された解析方法を提供する。【解決手段】 走査型プローブ顕微鏡を用いた溝形状測定において、溝壁面の位置を検出し、溝が形成されている方向における壁面位置の分布を求めることを特徴とする溝形状の粗さの解析方法およびその解析方法を用いた光ディスク、導光板などの評価方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
走査型プローブ顕微鏡を用いた溝形状測定において、溝壁面の位置を検出し、溝が形成されている方向における壁面位置の分布を求めることを特徴とする溝形状の粗さの解析方法。
IPC (3件):
G01N13/10 ,  G01B21/30 ,  G01N13/16
FI (3件):
G01N13/10 E ,  G01B21/30 ,  G01N13/16 A
Fターム (10件):
2F069AA02 ,  2F069AA42 ,  2F069AA43 ,  2F069AA57 ,  2F069AA60 ,  2F069BB17 ,  2F069HH30 ,  2F069NN07 ,  2F069NN17 ,  2F069NN26

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