特許

J-GLOBAL ID：200903029026417620

基板処理装置

発明者： 志摩 泰正
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-196639
公開番号（公開出願番号）：特開平10-034057
出願日： 1996年07月25日
公開日（公表日）： 1998年02月10日
要約：

【要約】【課題】 フロートからのイオンなどの異物や、フロートと支持部材との摩耗によるパーティクルの処理液中への混入を防止する。【解決手段】 従来のフロートスイッチの代わりに光センサ15a,15b,16a,16bを用いて、その投光部と受光部の間に連通管13を挾み込んで連通管13内の処理液の有無を検出することで、タンク5の外部から非接触でタンク5内の処理液の液面位置を連通管13を介して検出するようにしたため、フロートの腐食による各種樹脂イオンや各種金属イオンなどの異物や、フロートと支持部材との擦れ合いによるパーティクルの処理液中への混入が防止可能となる。

請求項（抜粋）：

タンクに貯蔵された処理液を基板の主面に供給して前記基板に所定の処理を施す基板処理装置において、前記タンクの外部から非接触でタンク内の処理液の液面位置を検出する検出部材を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (7件)：

B05C 11/10 ,  B08B 3/02 ,  B08B 11/04 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/306

FI (7件)：

B05C 11/10 ,  B08B 3/02 A ,  B08B 11/04 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/304 341 S ,  H01L 21/30 569 D ,  H01L 21/306 J