特許
J-GLOBAL ID：200903029028003335
二次元コードの形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉川 勝郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-019193
公開番号（公開出願番号）：特開2000-222516
出願日： 1999年01月28日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：
【要約】【課題】1セル1ビットに置きかえてメモリー容量を少なくすると共に、ビームスポット位置を座標管理して、精度良く表示面に二次元コードを形成できる。【解決手段】ビットマップファイルを読み込んで明模様又は暗模様の1セルを0又は1の二次元配列として保存する工程と、レーザー加工する1セルの大きさと、加工する素材によりレーザービームで形成される円形ドットの加工直径から1セル内に入る円形ドットの数を計算する工程と、保存された前記二次元配列と1セルの大きさから加工領域を求める工程と、この中心点を基準として複数のセル枠を格子状に設定する工程と、セル枠内に円形ドットを等間隔に配置する工程と、この配置された各円形ドットに対応するビームスポット座標をメモリーに保存する工程と、このメモリーに保存された加工データをレーザー焼付け機に出力して表示面にマーキング加工する工程とからなることを特徴とするものである。
請求項（抜粋）：
明暗模様の単位セルがマトリックス状に配置された二次元コードを、レーザー焼付けにより表示面に形成する二次元コードの形成方法において、ビットマップファイルを読み込んで明模様又は暗模様の1セルを0又は1の二次元配列として保存する工程と、レーザー加工する1セルの大きさと、加工する素材によりレーザービームで形成される円形ドットの加工直径から1セル内に入る円形ドットの数を計算する工程と、保存された前記0又は1の二次元配列と1セルの大きさから加工領域を求める工程と、この加工領域の中心点を基準として1セルの幅でXY方向に複数のセル枠を格子状に設定する工程と、円形ドットを各セル枠のコーナー内側に内接するように配置すると共に、コーナーの円形ドットとこの間に縦横に配置される円形ドットを等間隔に配置する工程と、加工領域内に配置された各円形ドットの中心に対応するビームスポット座標をメモリーに保存する工程と、このメモリーに保存された加工データをレーザー焼付け機に出力して表示面にマーキング加工する工程とからなることを特徴とする二次元コードの形成方法。
IPC (3件)：
G06K 1/12
, B23K 26/00
, G09F 7/14
G06K 1/12 G
, B23K 26/00 B
, G09F 7/14
