特許

J-GLOBAL ID：200903029031998380

隠された再帰反射パターンを備えた再帰反射物品

発明者： マーク・ビー・オニール ,  マイケル・エフ・ウェーバー ,  オールスター・ベンソン・ジュニア ,  ジョン・エイ・ウィートリー ,  ジェイムズ・エム・ジョンザ ,  ゲイリー・ビー・ハンソン
出願人/特許権者： ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-540460
公開番号（公開出願番号）：特表2002-509277
出願日： 1998年12月10日
公開日（公表日）： 2002年03月26日
要約：

【要約】反射物品はパターン形成される再帰反射層を覆う多層フィルムを有する。一実施態様において、パターン形成される再帰反射層は、再帰反射層を覆う個別の刻印層を含む。刻印は、通常に見る状態の下では実質的に隠されているが、再帰反射照明状態下では簡単に検出することができる。再帰反射層のさまざまな種類が開示される。物品はまた、周辺光の下でホログラフィ像を形成するが、再帰反射状態では消失する微細構造のレリーフパターンも有する。多層フィルムは、少なくとも第1および第2のポリマー交互に積層されて成る積層体を含み、可視スペクトルとほぼ同一の広がりを有する第1のスペクトル領域内への垂直入射光に関して比較的高い反射率を備え、第2のスペクトル領域内への垂直入射光に関して比較的低い反射率を備える。第2のスペクトル領域は、少なくとも部分的に可視スペクトルに配置される15%以下の部分帯域幅の透過窓を含むことができる。先行技術に比較して、より鋭いスペクトル遷移を実現するフィルム構成が開示される。また、高い入射(傾斜)角であってもこのような鋭い遷移を維持するようなフィルム構成も開示される。

請求項（抜粋）：

パターン形成された再帰反射層を覆う多層フィルムを具備する反射物品であって、前記多層フィルムが少なくとも第1および第2の材料を交互に積層された交互積層体を具備し、前記交互積層体が、第1のスペクトル領域内に垂直に入射する光に関して比較的高い反射率を示し、第2のスペクトル領域内に垂直に入射する光に関して比較的低い反射率を示すように構成される反射物品。

IPC (3件)：

G02B 5/124 ,  G02B 5/128 ,  G02B 5/26

FI (3件)：

G02B 5/124 ,  G02B 5/128 ,  G02B 5/26

Fターム (8件)：

2H042EA04 ,  2H042EA07 ,  2H042EA11 ,  2H042EA12 ,  2H048FA05 ,  2H048FA12 ,  2H048FA15 ,  2H048FA24

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特表平6-508449
  
• 特開平3-063602
  
• 再帰反射ホログラム再生体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-083992   出願人：株式会社資生堂
• 多層光学フィルム
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平8-519950   出願人：ミネソタマイニングアンドマニュファクチャリングカンパニー
• 多層光学フィルム
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平7-517483   出願人：ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファクチュアリング・カンパニー